中国首台5纳米光刻机 中国5纳米光刻机是否已经量产

中微半导体已经做出了3nm刻蚀机，在这个领域已经处于全球领先水平。上海睿励的新一代薄膜厚度测量设备最高可应用于5nm，并且可以应用于芯片制造前后端，以及10nm级DRAM、3DNAND的存储芯片领域也能应用。值得一提的是，上海睿励的设备100%国产，并且已经出货三星，应用于生产线中。

从每年芯片的进口量可以看出，多年来在进口商品中一直排第一位。为此，我们必须提高国内的芯片制造能力，提升国内的芯片产能，这自然需要更多的芯片制造设备。

芯片制造设备之前主要依赖进口，但近年来这个情况开始改变，国产芯片设备的水平不断提升，国内越来越多的晶圆厂开始选择。近日，又一重要的芯片设备实现突破。

芯片设备国产逐步推进

从今年上半年的大陆晶圆厂设备招标情况来看，芯片制造设备的国产化率有了非常明显的提高。其中，北方华创、中微半导体、芯源微、上海精测等大陆厂商占比较大。

国产设备主要侧重于干法去胶、刻蚀、清洗、抛光、涂胶显影设备和离子注入机等。

设备招标较突出的是上海积塔半导体，因为扩产今年招标超150台设备。近期招标的33台设备，除了ASML中标3台光刻机外，其他设备全部由大陆制造厂商中标。

其中，10台为北方华创中标，11台为拓荆科技中标。近期招标中，有4台工艺检测设备为上海微电子中标。从数据统计来看，积塔半导体的设备招标国产率是最高的。

虽然这些设备并不是很高端的设备，但至少我们都能做了，只要应用于产线，设备水平自然会逐步提高。当然，国产芯片制造设备中，也有不少已经达到了领先的水平。

比如中微半导体的刻蚀机，已经达到5nm水平，并且已经应用于台积电芯片产线。

中微半导体在芯片设备领域还是非常厉害的，它是由尹志尧博士带领团队回国创立的，之前的刻蚀设备也是限制进口的，中微半导体突破以后，国外就放开了出口限制。

据了解，中微半导体已经做出了3nm刻蚀机，在这个领域已经处于全球领先水平。

中微半导体在刻蚀设备领域取得了突出成果后，还通过投资积极布局其他设备领域。早些时间，就投资了薄膜设备领域的拓荆科技，就是上边中标了11台的拓荆科技。

国产检测设备正在突围

在薄膜设备领域投资取得效果后，中微半导体并没有止步，后来又投资了工艺检测设备领域的上海睿励，也取得了不错的成绩。对于这两种设备，大家可能都不太了解。

芯片制造需要很多种设备，主要有光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、清洗、扩散、抛光、工艺检测等八大设备。当然，这只是说的八大类，每类下面还有多种小分类。

据近几年数据统计显示，光刻、刻蚀、薄膜、工艺检测为前四种占比较大的设备。

由此可见，中微半导体的布局有多厉害吧，刻蚀设备自己做到了全球领先，又布局了薄膜、工艺检测两个设备领域。尤其是最近投资的工艺检测设备，重要性不断提高 。

近年来，因为芯片制造工艺一直在向更小的节点推进，芯片制造过程中的步骤增多，需要检测的频率也越来越高，加上晶圆厂大幅扩产，所以工艺检测设备需求量更大。

工艺检测设备同样被国外厂商，美企、日企的几家企业占据了全球市场的70%左右。

不过，近年来国产量检测设备厂商也开始突围，比如东方晶圆、上海精测、上海睿励等。其中，中微半导体投资的上海睿励在这方面做得很突出，近日又取得重要突破。

据消息显示，上海睿励的新一代薄膜厚度测量设备最高可应用于5nm，并且可以应用于芯片制造前后端，以及10nm级DRAM、3D NAND的存储芯片领域也能应用。

值得一提的是，上海睿励的设备100%国产，并且已经出货三星，应用于生产线中。

放眼全球，我国是唯一在芯片产业链中能够做到全产业链的，就是芯片各个环节都有涉及，这是谁也比不了的优势。现在的差距就在于精度，我们需要努力去各个击破。

如今，还都在向高端水平发起冲击，将会有更多突破，相信芯片卡脖子终会解决！